4Kディスプレイなどで省エネを実現する高安定な半導体……工学院大学
「イノベーション・ジャパン2015」が東京ビッグサイトで、27・28日に開催された。今回ピックアップするのは、工学院大学総合研究所の助教・相川慎也氏が中心となって研究する「製造条件に左右されない高安定なアモルファス酸化薄膜トランジスタ」だ。この技術によるメリットとしては、4K対応の大型ディスプレイやデジタルサイネージなどで省電力化とコストダウン、コマ落ちや画像ディレイといった現象の抑制できる点が挙げられる。
http://www.rbbtoday.com/article/2015/08/31/134787.html